超純水設備助力國產芯突破 未來發展的大勢所趨

　　中國的芯片技術和設備一直受到美國的限制。華為現在需要高端的硅基芯片，由于技術相對落后，中國一直無法生產高科技芯片，而硅基芯片的制造嚴重依賴光刻技術，這也是中國面臨的一個大問題。

　　因此，中國一直在尋找不需要光刻的技術，或是探索一種新型芯片。一方面，它在尋求一種新的生活方式。另一方面，隨著硅基芯片發展這么多年，技術越來越成熟，即將達到物理極限。屆時，為了適應人類科學技術的發展，就必然要尋找一種新型的芯片，而中國在該領域，早就已經突破技術的壁壘了，而超純水作為芯片行業的重要配套，成為國產“芯”突破壁壘的重要保障。

　　超純水是為了研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，是一種除了水分子外幾乎無其他雜質的水。傳統的超純水制取工藝通常是采用離子交換樹脂，但需要經常進行樹脂再生，既耗費物力又耗費人工，萊特萊德經過多年實踐，同時結合膜分離技術，采用反滲透加離子交換系統(或EDI)及拋光混床相結合的工藝來制取超純水，該工藝與傳統工藝相比具有運行成本低的優點(離子交換器的再生周期大大延長)，運行可靠。萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2，高于中國國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。

　　芯片作為一種微小型集成電路，微電子元件以其體積小、重量輕、可靠性高、工作速度快等特點，成為現代信息社會發展的重要基石。在微電子元件生產過程中需要大量的清洗用水，而普通自來水由于含有很多離子、微生物和病菌等無法達到工業生產要求，因此需要制備超純水來滿足行業需求，以保證元器件產品的質量和成品率。

　　萊特萊德超純水設備配備膜元件化學清洗專業技術，防止膜系統受到微生物污染。通過完善的技術，提高系統回收率，降低能耗和運行成本。萊特萊德超純水設備除了應用在芯片行業外，在電子、電力、造紙、日化等領域都有著廣泛的應用。

　　國產替代進口已經是芯片行業的共識，也是未來幾年芯片發展的大勢所趨。2020-2025年必將是中國芯片產業的騰飛階段。目前，國內手機品牌已逐漸進入世界，占據了大部分市場。如果所有芯片再次實現國產化，中國企業在這個行業擁有真正發言權只是時間問題。