超純水設備助力國產芯突破 未來發展的大勢所趨
中國的芯片技術和設備一直受到美國的限制。華為現在需要高端的硅基芯片,由于技術相對落后,中國一直無法生產高科技芯片,而硅基芯片的制造嚴重依賴光刻技術,這也是中國面臨的一個大問題。
因此,中國一直在尋找不需要光刻的技術,或是探索一種新型芯片。一方面,它在尋求一種新的生活方式。另一方面,隨著硅基芯片發展這么多年,技術越來越成熟,即將達到物理極限。屆時,為了適應人類科學技術的發展,就必然要尋找一種新型的芯片,而中國在該領域,早就已經突破技術的壁壘了,而超純水作為芯片行業的重要配套,成為國產“芯”突破壁壘的重要保障。
超純水是為了研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水,是一種除了水分子外幾乎無其他雜質的水。傳統的超純水制取工藝通常是采用離子交換樹脂,但需要經常進行樹脂再生,既耗費物力又耗費人工,萊特萊德經過多年實踐,同時結合膜分離技術,采用反滲透加離子交換系統(或EDI)及拋光混床相結合的工藝來制取超純水,該工藝與傳統工藝相比具有運行成本低的優點(離子交換器的再生周期大大延長),運行可靠。萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2,高于中國國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。
芯片作為一種微小型集成電路,微電子元件以其體積小、重量輕、可靠性高、工作速度快等特點,成為現代信息社會發展的重要基石。在微電子元件生產過程中需要大量的清洗用水,而普通自來水由于含有很多離子、微生物和病菌等無法達到工業生產要求,因此需要制備超純水來滿足行業需求,以保證元器件產品的質量和成品率。
萊特萊德超純水設備配備膜元件化學清洗專業技術,防止膜系統受到微生物污染。通過完善的技術,提高系統回收率,降低能耗和運行成本。萊特萊德超純水設備除了應用在芯片行業外,在電子、電力、造紙、日化等領域都有著廣泛的應用。
國產替代進口已經是芯片行業的共識,也是未來幾年芯片發展的大勢所趨。2020-2025年必將是中國芯片產業的騰飛階段。目前,國內手機品牌已逐漸進入世界,占據了大部分市場。如果所有芯片再次實現國產化,中國企業在這個行業擁有真正發言權只是時間問題。
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